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Basic Member
加入日期: Dec 2010
文章: 27
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[請益]一個半導體靜電吸附的問題?
就吸附種類區分有:1.機械吸附 2.真空吸附 3.靜電吸附
靜電吸附的效果最好, 最不會有particle issue產生 機台是AMAT DPS 想請問的是: wafer不是很怕靜電嗎? 為何還能使用靜電吸附? 若改成真空吸附的話,可行嗎? |
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Regular Member
![]() ![]() 加入日期: Aug 2004 您的住址: 第三新東京市
文章: 86
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引用:
chamber 裡面在運作的時候是低真空的, 假如背面是用真空吸附的話 兩面的壓力差會很小 吸附的效果就會變差. 另外 wafer怕靜電是怕電荷累積之後會有靜電放電 (discharge) e-chuck上面用的方法 不太會造成大量的電荷累積 |
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