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aniceperson
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加入日期: Dec 2010
文章: 27
[請益]一個半導體靜電吸附的問題?

就吸附種類區分有:1.機械吸附 2.真空吸附 3.靜電吸附
靜電吸附的效果最好, 最不會有particle issue產生

機台是AMAT DPS
想請問的是:
wafer不是很怕靜電嗎? 為何還能使用靜電吸附? 若改成真空吸附的話,可行嗎?
     
      
舊 2011-04-23, 04:49 PM #1
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aniceperson現在在線上  
Kaworu_ht
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Kaworu_ht的大頭照
 

加入日期: Aug 2004
您的住址: 第三新東京市
文章: 86
引用:
作者aniceperson
就吸附種類區分有:1.機械吸附 2.真空吸附 3.靜電吸附
靜電吸附的效果最好, 最不會有particle issue產生

機台是AMAT DPS
想請問的是:
wafer不是很怕靜電嗎? 為何還能使用靜電吸附? 若改成真空吸附的話,可行嗎?


chamber 裡面在運作的時候是低真空的, 假如背面是用真空吸附的話
兩面的壓力差會很小 吸附的效果就會變差.

另外 wafer怕靜電是怕電荷累積之後會有靜電放電 (discharge)
e-chuck上面用的方法 不太會造成大量的電荷累積
 
舊 2011-04-23, 09:12 PM #2
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Kaworu_ht離線中  


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