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Angel13
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加入日期: Oct 2001
您的住址: 彰化縣xx鄉
文章: 1,199
引用:
作者everspiral
IBM跟intel交手那麼多次,也難怪IBM會去找大陸業者合作

因為intel的策略聯盟,intel+台積電+三星一起投資18吋晶圓,開發32nm以下的製程



http://www.eettaiwan.com/ART_880052...NT_703acf67.HTM


這就是知識來源
http://www.eettaiwan.com/
     
      
__________________
1.真象可能不只有一個
2.時間能證明一切

最近才知道..."社會文盲"有很多,一邊哀鳴著別個油多便宜
但他們跟本不知道是奴役著3億人外的其他人類所得的血汗油價!

http://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/110510/2/2kwvo.html
上阿! 刪掉補助款!

為了世界的未來+和平!!
請大家多多抗韓!!!!!!
舊 2009-10-29, 01:23 AM #11
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Angel13離線中  
okana
Power Member
 

加入日期: Nov 2005
文章: 604
引用:
作者Angel13
IBM都先行宣佈停止EUV轉向雙重浸潤式微影技術
這確實是很大的改變(GF好像是先說他們不跟IBM搞EUV 良率跟量產太爛了)
現在TSMC還是浸潤式微影技術的先行者 要到2012才能到專利結束 更何況是雙浸

三星電子於月初還是更早也宣佈 40nm包含以下用(雙)浸潤式微影技術製做DRAM

這很明顯了 EUV被棄守中(除非能有重大突破)
IBM的技術權利金太大太可怕了
AMD賣一顆CPU 獲利要被吃掉45%-55%


泛IBM聯盟啥時說不用EUV?
浸潤式微影已經快走到極限(雙重曝光只能改善一點繞射現象)
想要往下微縮
EUV是目前唯一有大量生產能力的次世代微影技術
 
舊 2009-10-29, 02:45 AM #12
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Angel13
Senior Member
 

加入日期: Oct 2001
您的住址: 彰化縣xx鄉
文章: 1,199
引用:
作者okana
泛IBM聯盟啥時說不用EUV?
浸潤式微影已經快走到極限(雙重曝光只能改善一點繞射現象)
想要往下微縮
EUV是目前唯一有大量生產能力的次世代微影技術


那是你對EUV神化了
東西能量產 價格合理才有用

http://www.eettaiwan.com/ART_880057...NT_0b2f253d.HTM

設備產業有太多理由需要合作,其中一個就是微影技術的發展。目前193奈米浸潤式微影,被視為可支援32/28奈米製程節點;但到了22奈米節點,微影技術選項除了193奈米浸潤式技術,還有雙圖案(double-patterning)、無光罩(maskless)與奈米壓印(nanoimprint)。
__________________
1.真象可能不只有一個
2.時間能證明一切

最近才知道..."社會文盲"有很多,一邊哀鳴著別個油多便宜
但他們跟本不知道是奴役著3億人外的其他人類所得的血汗油價!

http://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/110510/2/2kwvo.html
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請大家多多抗韓!!!!!!
舊 2009-10-29, 08:32 AM #13
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okana
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加入日期: Nov 2005
文章: 604
引用:
作者Angel13
那是你對EUV神化了
東西能量產 價格合理才有用

http://www.eettaiwan.com/ART_880057...NT_0b2f253d.HTM

設備產業有太多理由需要合作,其中一個就是微影技術的發展。目前193奈米浸潤式微影,被視為可支援32/28奈米製程節點;但到了22奈米節點,微影技術選項除了193奈米浸潤式技術,還有雙圖案(double-patterning)、無光罩(maskless)與奈米壓印(nanoimprint)。


雙重曝光(double-patterning)微影增強技術 不是微影技術
無光罩是指用e-beam 是可以用 但是太慢
奈米壓印 大面積下良率根本是看天吃飯
EUV除了機器和光罩貴以外 在生產上和現行系統並無太大差異
舊 2009-10-29, 09:23 AM #14
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okana離線中  
Angel13
Senior Member
 

加入日期: Oct 2001
您的住址: 彰化縣xx鄉
文章: 1,199
引用:
作者okana
雙重曝光(double-patterning)微影增強技術 不是微影技術
無光罩是指用e-beam 是可以用 但是太慢
奈米壓印 大面積下良率根本是看天吃飯
EUV除了機器和光罩貴以外 在生產上和現行系統並無太大差異


雙重曝光(double-patterning)微影增強技術是微影技術的延生
他也是微影技術 他能達到22nm

EUV不是不好 是跟本不願資金去燒這種高成本回收期長,且不穩定之高風險投資
能用到便宜量產的東西 誰會再去用貴的

http://www.eettaiwan.com/ART_880055...NT_205ca230.HTM
IBM那篇採用193奈米浸潤式微影技術開發SOI的文章我也忘了在哪
有興趣自己去找http://www.eettaiwan.com/

還有intel tsmc 三星是共同向18"進發 不是32nm
http://www.eettaiwan.com/ART_880058...NT_4e23b551.HTM

產業的東西 去找專輯型的網站才能得到 比起普通或者是從事該行業而不吸取新知者
__________________
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2.時間能證明一切

最近才知道..."社會文盲"有很多,一邊哀鳴著別個油多便宜
但他們跟本不知道是奴役著3億人外的其他人類所得的血汗油價!

http://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/110510/2/2kwvo.html
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舊 2009-10-29, 10:11 AM #15
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okana
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加入日期: Nov 2005
文章: 604
引用:
作者Angel13
雙重曝光(double-patterning)微影增強技術是微影技術的延生
他也是微影技術 他能達到22nm

EUV不是不好 是跟本不願資金去燒這種高成本回收期長,且不穩定之高風險投資
能用到便宜量產的東西 誰會再去用貴的

http://www.eettaiwan.com/ART_880055...NT_205ca230.HTM
IBM那篇採用193奈米浸潤式微影技術開發SOI的文章我也忘了在哪
有興趣自己去找http://www.eettaiwan.com/

還有intel tsmc 三星是共同向18"進發 不是32nm
http://www.eettaiwan.com/ART_880058...NT_4e23b551.HTM

產業的東西 去找專輯型的網站才能得到 比起普通或者是從事該行業而不吸取新知者


雙重曝光(double-patterning)是從pattern設計上下功夫
透過電腦補償繞射問題
可以增加曝光品質
但對於最小尺寸是沒有幫助
物理上多小就是多小了

ps.建議真的有興趣去找本教科書來看吧
舊 2009-10-29, 01:28 PM #16
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Angel13
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加入日期: Oct 2001
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文章: 1,199
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作者okana
雙重曝光(double-patterning)是從pattern設計上下功夫
透過電腦補償繞射問題
可以增加曝光品質
但對於最小尺寸是沒有幫助
物理上多小就是多小了

ps.建議真的有興趣去找本教科書來看吧


以上你是對的 謝謝你 受教了

雙重曝光(double-patterning)微影增強技術是微影技術的延生
他也是微影技術內容之一 他能達到28nm
以上改這樣才對

這是9月大家搶設備(大廠積極採購 浸潤式微影工具交貨等待期延長
http://www.eettaiwan.com/ART_880058...NT_c5bf5681.HTM

這是第一台12吋無光罩多重電子束微影設備給台積電研究製程
http://tech.chinatimes.com/2007Cti/...0300343,00.html

勝負還不知道 雖說Nikon將開發一款「量產型」設備EUV3並計劃在2012年發表
還有至少2年 這兩年誰先賺 還不知道
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2.時間能證明一切

最近才知道..."社會文盲"有很多,一邊哀鳴著別個油多便宜
但他們跟本不知道是奴役著3億人外的其他人類所得的血汗油價!

http://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/110510/2/2kwvo.html
上阿! 刪掉補助款!

為了世界的未來+和平!!
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舊 2009-10-29, 03:38 PM #17
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