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ASML總裁炮轟:中國自主研發光刻機 是在破壞全球晶片産業鏈
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tseyik
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加入日期: Nov 2006
文章: 560
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作者
healthfirst.
中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片
2024-09-14
https://www.cna.com.tw/news/ait/202409140249.aspx
我看對岸的人說
這台是普通乾式ArF
非浸潤式ArFi
好像已經調適、驗證3年
大多會用在65~28nm的產品上
不是什麼生產8nm用的
媒體不懂才說8nm
工信部是説可做到小於8nm
工信部重装函〔2024〕254号
工业和信息化部
2024年9月2日
https://www.imaschina.com/article/62750.html
2024-09-16, 09:29 AM #
225
tseyik
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