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加入日期: Apr 2017
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文章: 3,176
引用:
作者Hermit Crab
關於中國自主研發光刻機,
這兩天又冒出幾個關鍵字:

一個是很討厭臺積電的項立剛在吹捧X光光刻機,
是的你沒有看錯,就是醫院跟安檢用的那種X光,
他宣稱下一代光刻機不是EUV,而一定是X光,
而且還一定會是中國率先做出來,遙遙領先!

另外一個關鍵字是清華大學SSMB-EUV光源,
號稱比ASML用的強50倍可以同時帶動多臺光刻機。

浸潤式曝光機沒出來前
當時研究方向就是X光
俄羅斯去年也說過要研發X光的曝光機
引用:
https://www.ltedu.com.tw/web/scient...Y=10&ARTICLE=02

業界已在EUV上投資數十億美元,如果這項技術真的被放棄,命運就和X光微影技術一樣。
X光微影技術由IBM主導,採用同步加速器生成的輻射線,IBM與美國國防部高等研究計畫署
已經投下超過10億美元的資金。事實上,在電磁波譜上,EUV的波長與X光相去不遠。
由於波長略大,EUV技術原被稱為「軟X光」投射微影技術,直到「X光」開始被視為研發的無底洞之後,
才更名為EUV。


https://www.pcdvd.com.tw/showpost.php?p=1087318464
對岸現在3條路線都做
成功與否等待時間檢驗
舊 2023-09-14, 10:57 AM #108
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