《國際產業》ASML：High NA EUV測試設備 今年如期出貨 (
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時報資訊
2023年9月5日 週二 下午11:31
【時報編譯張朝欽綜合外電報導】荷蘭艾司摩爾(ASML)執行長Peter Wennink說，
儘管供應商的一些延誤，公司仍將在今年如期出貨次世代產品的首批先導設備。
執行長說：「一些供應商在提高效率、提供合適的技術品質方面存在一些困難，
因此導致了一些延遲」，「但是實際上，仍將在今年首次出貨」。
艾司摩爾的次世代微影機High NA EUV的大小如同一輛卡車，每台成本高達3億美元，
為最頂尖的晶圓製造商所需，以製造更小和更好的下世代晶片。
目前僅有台積電(2330)、英特爾、三星、SK海力士、
美光有使用艾司摩爾最先進的設備，極紫外光微影機(EUV)，
一台如同巴士大小，每台造價破2億美元。
High NA或稱高數值孔徑(high numerical aperture)的設備將從更寬的角度收集光線，解析度最高可提高70%。