《國際產業》ASML：High NA EUV測試設備 今年如期出貨

時報資訊
2023年9月5日 週二 下午11:31

【時報編譯張朝欽綜合外電報導】荷蘭艾司摩爾(ASML)執行長Peter Wennink說，
儘管供應商的一些延誤，公司仍將在今年如期出貨次世代產品的首批先導設備。

執行長說：「一些供應商在提高效率、提供合適的技術品質方面存在一些困難，
因此導致了一些延遲」，「但是實際上，仍將在今年首次出貨」。

艾司摩爾的次世代微影機High NA EUV的大小如同一輛卡車，每台成本高達3億美元，
為最頂尖的晶圓製造商所需，以製造更小和更好的下世代晶片。

目前僅有台積電(2330)、英特爾、三星、SK海力士、
美光有使用艾司摩爾最先進的設備，極紫外光微影機(EUV)，
一台如同巴士大小，每台造價破2億美元。

High NA或稱高數值孔徑(high numerical aperture)的設備將從更寬的角度收集光線，解析度最高可提高70%。

客戶將先測試High NA EUV，然後在投入商業量產，
因為邏輯晶片的製造商需要比記憶體製造商更早取得設備。

此外執行長也證實了，公司在今年在DUV的銷售金額，將高於EUV。
艾司摩爾預計，今年DUV銷售將成長30%，主要是中國對該款微影機的需求強勁。

Wennink說，隨著在亞利桑那州和台灣的新晶片工廠準備迎接EUV設備，
這種情形將在2024年翻轉；目前市場對高階AI晶片的需求正日益增加。