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Golden Member
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台積電是一步走一階梯
intel跟三星想要一步兩三個階梯
從現在的結果來看
三星上去踩不穩
intel上不去
人嘛
還是一步一腳印吧 
引用:
7奈米製程大亂鬥，台積電與三星技術訴求各不同
2018.11.13
https://www.bnext.com.tw/article/51267/
台積電、三星7奈米策略不同
工研院IEK分析，台積電的7奈米「走穩扎穩打」路線，量產初期使用深紫外光刻（DUV）曝光，
利用沉浸式曝光和多重曝光技術平穩轉進7奈米。而第一代7奈米鰭式場效電晶體（FinFET）製程
經在2017年第二季進入試量產階段，與10奈米FinFET製程相比，7奈米FinFET製程可以在電晶體
數量相同的情況下使晶片減少37%，或在電路複雜度相同的情況下降低40%功耗。
等到DUV穩定後，再轉換到極紫外光（EUV）曝光10奈米以下製程，針對EUV最佳化布線密度可減少
10%到20%的面積，或在電路複雜度相同的情況下，比第一代7奈米FinFET再降低10%功耗。
而三星則走大膽前進路線。直接搶進7奈米 EUV，而在7奈米之後則規劃使用第二代EUV曝光技術的6奈米
製程，屬於7奈米EUV技術的加強版，電器效能更好。在2018年下半年試產使用7奈米EUV技術產品，
大規模投產時間為2019年下半年，而6奈米製程應該會在2020年後出現。
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