10nm世代ソ半導体技術ゎ6月ソVLSIЁ⑦рЖヨуザ姿メ現マエ
半導体ソ最先端世代ゎコゆズ10nm世代ズ突入エペ。6月ズ開催予定ソ国際学会「VLSIЁ⑦рЖヨу」ザ、10nm以降ソ微細化メ想定ウギCMOS①ЖЧヱ技術ゎ披露イホペアシゎ明ヘろズスゲギ。
VLSIЁ⑦рЖヨуソ会場シスペоЪю「Hilton Hawaiian Village」(2014年ソVLSIЁ⑦рЖヨу開催時ズ撮影)。VLSIЁ⑦рЖヨуゾ西暦ソ奇数年ゾ京都ザ、偶数年ゾ米国ソг③ユザ開催イホサわギ
10nm以降ソ最先端CMOS①ЖЧヱ技術メ発表エペソゾ、次ソ3社ク。IBMシGLOBALFOUNDRIESソ共同開発Хみу、Samsung Electronics、TSMCザやペ。同ェゑ10nm以降ソ半導体製造技術メ開発ウサゆペシ見ヘホペ、Intelろヘゾ発表ゎスゆ。今年(2016年)12月ズ開催メ予定ウサゆペ国際会議「IEDM」以降ザソ発表シスペソクボよ。
看來某外星科技(笑)是趕不上了