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everspiral
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加入日期: Nov 2004
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作者airitter
不好意思您誤會我的意思囉
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我的問題是3-D製程和現在一般的製程差異性為何? 還是只是個噱頭?


2600K 電晶體數量11.6億 核心面積216mm²
     32nm每mm2電晶體數量53.7百萬
     如果做成22nm每mm²電晶體數量 約可達到91.29百萬(乘1.7)
     核心面積約為127mm²(除1.7) 當然一般製程 面積降低功耗也會跟著降低
    
同樣用一般製程160mm2 電晶體數量約可到達14.6億
3-D製程的160mm² 電晶體數量有14.8億

所以以上可了解 3D製程 同樣的面積 電晶體數量只增加了約1%
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Pentium G860 核心面積131 mm² 65W
    3770K 核心面積160 mm² 77W
Core i7 2600K 核心面積216 mm² 95W

上面看來功耗也沒有...



看了intel官方的資料
1.gate的耐電流提高60~100%,從開到關或者反之的速度提高
2.待機的峰值電壓近似於0,
3.待機時可以降頻到1MHz,以超低時脈運作幾乎不會消耗電力
(預計在下一代的Haswell可實現在有限的電池環境下待機一週)
     
      
舊 2012-04-28, 07:29 PM #41
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