28nm要在第一季是有可能的....不過是在一月還是三月生產呢?

40nm生產良率跟不上是因為製程中很重要的離子植入裝製廠商
因沒有預料到40nm大量的被採用(外加上很多廠商改變成為無晶圓廠)
TSMC有可能大量採購嗎? 那還花那個大錢?(是要累死自己還是離子供應商?)
28nm是已準備就續 已經是不爭事實 加上TSMC的32nm 28nm並不用重新設計晶片(所以這則新聞可信度有80% 因為Nvidia跟ATI都出來了 這讓我懷疑費米根本在等28nm)

浸潤雙重微影的機器已有廠商購買(第一臺先購買者是GF)TSMC跟三星都採用浸潤雙重微影

事實上，由於包括荷商艾司摩爾（ASML）、日本尼康（Nikon）及佳能（Canon）等微影設備大廠，已將極紫外光（EUV）列為193nm之後的主流技術，並停止了157nm技術及設備研發工作，但因EUV設備現在仍然太貴，所以介於193nm及EUV二個製程世代中間的三二奈米，只能由193nm浸潤式製程著手研發。(工商時報 2007-12-12)
這是2007年底的新聞
(現在是浸潤雙重微影能到28nm 廠商也定28n為全世代 只有intel是22nm)

intel直接用的是EUV跟現在TSMC跟GF的浸潤雙重微影是不相干的
EUV是直接進入22nm
浸潤雙重微影是32~28nm(也有說最大極限是22nm)

最大的關鍵技術是22nm這個分水嶺 這是生死存活的關卡(還有18"吋晶圓廠!)