主題: IBM攜手大陸晶圓廠 抗衡台積電
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Angel13
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加入日期: Oct 2001
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引用:
作者okana
雙重曝光(double-patterning)是從pattern設計上下功夫
透過電腦補償繞射問題
可以增加曝光品質
但對於最小尺寸是沒有幫助
物理上多小就是多小了

ps.建議真的有興趣去找本教科書來看吧


以上你是對的 謝謝你 受教了

雙重曝光(double-patterning)微影增強技術是微影技術的延生
他也是微影技術內容之一 他能達到28nm
以上改這樣才對

這是9月大家搶設備(大廠積極採購　浸潤式微影工具交貨等待期延長
http://www.eettaiwan.com/ART_880058...NT_c5bf5681.HTM

這是第一台12吋無光罩多重電子束微影設備給台積電研究製程
http://tech.chinatimes.com/2007Cti/...0300343,00.html

勝負還不知道 雖說Nikon將開發一款「量產型」設備EUV3並計劃在2012年發表
還有至少2年 這兩年誰先賺 還不知道
__________________
1.真象可能不只有一個
2.時間能證明一切

最近才知道..."社會文盲"有很多,一邊哀鳴著別個油多便宜
但他們跟本不知道是奴役著3億人外的其他人類所得的血汗油價!

http://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/110510/2/2kwvo.html
上阿! 刪掉補助款!

為了世界的未來+和平！！
請大家多多抗韓！！！！！！
舊 2009-10-29, 03:38 PM #17
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