作者Angel13

雙重曝光(double-patterning)微影增強技術是微影技術的延生
他也是微影技術 他能達到22nm

EUV不是不好 是跟本不願資金去燒這種高成本回收期長,且不穩定之高風險投資
能用到便宜量產的東西 誰會再去用貴的

http://www.eettaiwan.com/ART_880055...NT_205ca230.HTM
IBM那篇採用193奈米浸潤式微影技術開發SOI的文章我也忘了在哪
有興趣自己去找http://www.eettaiwan.com/

還有intel tsmc 三星是共同向18"進發 不是32nm
http://www.eettaiwan.com/ART_880058...NT_4e23b551.HTM

產業的東西 去找專輯型的網站才能得到 比起普通或者是從事該行業而不吸取新知者