PCDVD數位科技討論區 - 瀏覽單個文章 - IBM攜手大陸晶圓廠抗衡台積電

引用:

作者okana

雙重曝光(double-patterning)微影增強技術不是微影技術
無光罩是指用e-beam 是可以用但是太慢
奈米壓印大面積下良率根本是看天吃飯
EUV除了機器和光罩貴以外在生產上和現行系統並無太大差異

雙重曝光(double-patterning)微影增強技術是微影技術的延生
他也是微影技術他能達到22nm

EUV不是不好是跟本不願資金去燒這種高成本回收期長,且不穩定之高風險投資
能用到便宜量產的東西誰會再去用貴的

http://www.eettaiwan.com/ART_880055...NT_205ca230.HTM
IBM那篇採用193奈米浸潤式微影技術開發SOI的文章我也忘了在哪
有興趣自己去找http://www.eettaiwan.com/

還有intel tsmc 三星是共同向18"進發不是32nm
http://www.eettaiwan.com/ART_880058...NT_4e23b551.HTM

產業的東西去找專輯型的網站才能得到比起普通或者是從事該行業而不吸取新知者