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IBM攜手大陸晶圓廠 抗衡台積電
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okana
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加入日期: Nov 2005
文章: 604
引用:
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Angel13
那是你對EUV神化了
東西能量產 價格合理才有用
http://www.eettaiwan.com/ART_880057...NT_0b2f253d.HTM
設備產業有太多理由需要合作,其中一個就是微影技術的發展。目前193奈米浸潤式微影,被視為可支援32/28奈米製程節點;但到了22奈米節點,微影技術選項除了193奈米浸潤式技術,還有雙圖案(double-patterning)、無光罩(maskless)與奈米壓印(nanoimprint)。
雙重曝光(double-patterning)微影增強技術 不是微影技術
無光罩是指用e-beam 是可以用 但是太慢
奈米壓印 大面積下良率根本是看天吃飯
EUV除了機器和光罩貴以外 在生產上和現行系統並無太大差異
2009-10-29, 09:23 AM #
14
okana
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