蒸鍍通常指在低壓下,將物體加熱汽化後,就可以揮發,到你欲鍍的材質上附著,金屬與有機材都很常用此法;
濺鍍是指通常也在低壓下,一高速的粒子束撞擊到靶材,所濺出的物質鍍到你欲鍍的材質,常用的是金屬材
以上都屬PVD
而CVD是在鍍時有化學反應發生,像是鍍上碳化矽,氮化矽等材料,在半導體使用很廣