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昨天剛好有機會參觀朋友在大學的實驗室，他們最近都在測雷射讀取頭的雷射波長對激光儲存的功率校正(就是設計調整控制功率的ic及電晶體)，所以就拿了一堆機子當對照組，而我也特別對nec這台有興趣，朋友也實測給我看，這台在改機之後，在燒錄到外圈時，會出現功率校正反應不夠快(以高速燒錄時)，使得激光的波長略長一些，這樣會讓染料上的訊號變差。

上面的實驗是自己看到的結果，也有可能是單一機子的問題，所以你要我提出相關資料佐證就有困難，而且這些測試結果好像是機密的樣子，朋友還特別交待不可以提到測試的數據，若有錯誤，我們就把它歸到人為操作的因子吧，我並不是唸這東西的。