|
PCDVD數位科技討論區
(https://www.pcdvd.com.tw/index.php)
- 七嘴八舌異言堂
(https://www.pcdvd.com.tw/forumdisplay.php?f=12)
- - ASML總裁炮轟：中國自主研發光刻機 是在破壞全球晶片産業鏈
(https://www.pcdvd.com.tw/showthread.php?t=1202038)
|
|---|
引用:
原來如此。:laugh: ;) |
今天起床就看到大量簡中媒體敲鑼打鼓宣稱俄羅斯弄出來了基於X光的“自主架構”光刻機，
成本只要37萬元人民幣（原文是500萬盧布），號稱2024年生產出7nm晶片。 :o :p 感謝網友在另外一串提供的訊息: 俄羅斯都要自己搞可生產7奈米晶片的曝光機 |
佳能彎道超車提供ASML外的另一種選擇？
這兩天圈子裏挺熱鬧，很多人都在討論關於佳能公佈的納米壓印（nano-imprint）方案，
佳能開始銷售納米壓印半導體製造設備 以製造攝影機及影印機而聞名的日本佳能（Canon）宣布， 開始銷售納米壓印（Nanoimprint lithography）半導體製造設備， 試圖與荷蘭光刻機巨頭ASML的極紫外光（EUV）光刻機競爭。 納米壓印是光學光刻的低成本替代方案，曾獲記憶體製造商SK 海力士及東芝推廣。 相關器材繞過傳統的光刻技術，直接將電路圖案壓印於晶圓。 前名為東芝記憶體的Kioxia，曾測試佳能的納米壓印機，確認已達到商業成熟程度。 佳能於2014年收購納米壓印先驅Molecular Imprints，並長期研究相關技術。 佳能表示，其晶片製造設備可生產相當於5納米製程的電路。佳能預計， 其設備透過改良，將可達到2納米製程的水平。目前ASML的EUV光刻機， 是製造5納米或以下製程晶片的唯一可靠方法，被美國禁止出口中國。 佳能的技術或為中美貿易戰增添新戰線。 2nm！佳能推出纳米压印光刻机，直接弯道超车ASML？深度解读！ 根據媒體介紹，相關技術將會先應用在電路相對簡單的NAND Flash生產， 之後才會導入DRAM生產，確定解決良率問題才會進入邏輯晶片生產環節。 一個月前，中國有一家公司宣稱他們也突破了類似技術， 并且相關光刻機產品還出口到了日本、韓國、以色列， 結果被中國證監會處罰250萬元(人民幣)。 關鍵字: 蘇大維格 （300331） 《A股動向》混淆光刻機概念炒作股價,蘇大維格將遭深交所處分 光刻机卖到了日韩、以色列？证监会：拟对苏大维格等罚款250万元#苏大维格 #光刻机 |
引用:
這東西要真那麼好搞得出來,早就路邊隨便就能買到!! 就算搞出來了,製程就沒問題了嗎???? 你放心好了 , 製程的問題就算解決了A , 後面還有B 等你來解決, 後面還有很多很多問題 等你慢慢來解 !! 對岸的東西別說不瞭解 , 按照老共的基本特性,它說的話要打折的 , 只是要從多少折來起跳的問題罷了!! 按照那些來自對岸的謠言, 我會從打1折起跳 ...... :think: :think: :think: |
引用:
一句話, 第一個embosser要怎麼做出來? 這就是LIGA製程又拿出來換個名字重新定義一下而已... 問題還很多 如果是非關鍵層可能可以做 |
奈米壓印已經快10年了
何時會上市? 哪個傻子企業要先採用? 有個某大國錢多到快花不完.怎不快去複製這個印刷技術 |
引用:
LIGA只有十年的話, 應該回去你的塔綠斑平行宇宙說.... LIGA的興起大概是80年代末期到90年代中期 話說到聽你說的好像canon和中國很好? 你有聽過你的日本大哥哥不允許出口嗎? https://money.udn.com/money/story/5599/7184612 所以要救canon..... 有點難 |
|
引用:
在底下看到一篇評論，不明覺厲... :laugh: ;) @samtsou @samtsou 7 hours ago 這是我再去年10月就已經提出的NIL問題看法 有關UV-NIL奈米轉壓印技術已經發展一段時間了，就在曝光機被ASML打敗後，日本更是在這技術上投入心力，希望能藉此技術另闢途徑東山再起，包括這次美日2nm合作計畫中，日本這項技術參與的機會也非常之大。這項技術本身就具有許多難以克服的問題，自己初步歸納如下: 1. 產能追不上曝光機，不管你是用滾輪式或是單片壓都一樣 2. 平壓時的壓力分佈不均，晶圓與母模兩者水平面平行性，以及晶圓表面平坦度問題 3. 母模製作對高縱深比(Aspec Ratio)微細溝槽蝕刻時，兩邊垂直面易產生貝殼扇面紋路，導致與光阻沾黏，同時槽頂與槽底的寬度差難控制到相同，不要忘記他是用石英材質，不是一般的半導體用的矽材質。 4. 拔模及曝光時會減損母模抗沾黏薄層壽命，你還沒法當場檢查出來，只能固定片數後換母模，浪費母模增加成本。 5. 母模有瑕疵很難檢查出來，一上線或是使用一段時間，後面印出來就會印出是一大堆廢品，而且是重複發生相同的瑕疵。 6. 曝光後拔模極易產生Teeth Edge瑕疵。 7. 每一層曝光都要換成母模壓印，那麼5nm就需要20個以上不同母模，且每個母模使用壽命又遠低於光罩，成本會拉到極高。 8. 每次經過沉積，CMP後，晶圓的平坦與厚度會變化，母模壓上去就會出問題，越往後層數越多，問題也會跟著增多。 9. 抗光組沾黏層材料使用壽命有限，你是印沒多少片就要換下來的，結果就是，以5nm製程舉例，你就需要至少超過50個母模再備著使用，甚至更多，真是有錢沒地方花嗎? 11. 針對第8項，你是要如何控制Overlay精度? 機台本身抓了一個母模壓在晶圓上，這機台的Overlay精度控制要比曝光機難上加難，現在新一代曝光機的Overlay精度是只要找出晶圓及Die位置後再作曝光位置精度補償，就已經被要求做到2nm。 你還多出來一個抓在天上的母模位置誤差，能作到2nm以內的Overlay Error? 12. 在晶圓片上四週會有Primary Mark，在每個Die之間會有不同圖型的Street Mark，作為曝光位置與機台間的補償對位，要UV-NIL是每次一片Die來印，就沒問題，但是要一次同時印多個Die就絕對完蛋，所以產能會輸曝光機。 13. 任何UV光阻劑在曝光後都會有Photo Resist Contrast現象，光阻劑會急速收縮體積，這就會產生向側邊牆的應力出現，後面導致Line的邊緣變的不平整。 以上問題都解決了嗎? |
引用:
日本半導體在上個世紀跌落神壇... 記得和出口管制引起的美國制裁也有些關係.... ASML能崛起也是美國政府出手協助整合的 |
| 所有的時間均為GMT +8。 現在的時間是09:39 PM. |
vBulletin Version 3.0.1
powered_by_vbulletin 2025。